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低溫等離子廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機(jī)理

來(lái)源:未知 ?? 作者: 本藍(lán)環(huán)保; 發(fā)布日期:2020-10-10 11:11

低溫等離子廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機(jī)理
 
  低溫等離子廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機(jī)理:
 
  等離子體去除惡臭是通過(guò)兩個(gè)途徑完成的:一個(gè)是在高能電子的瞬間是高能量效果下,翻開某些有害氣體分子的化學(xué)鍵,使其直接分解成單質(zhì)原子或無(wú)害分子;另一個(gè)是在很多高能電子、離子、激起態(tài)粒子和氧自在基、氫氧自在基(自在基因帶有不成對(duì)電子而具有很強(qiáng)的活性)等效果下的氧化分解成無(wú)害產(chǎn)品。***要有下面幾個(gè)過(guò)程:
 
  1、在高能電子效果下,強(qiáng)氧化性自在基O、OH、OH2的產(chǎn)生;
 
  2、有機(jī)物分子遭到高能電子磕碰被激起,及原子鍵開裂構(gòu)成小碎片基團(tuán)和原子;
 
  3、O、OH、HO2與激起原子、有機(jī)物分子、廢氣處理公司破碎的基團(tuán)、其他自在基等產(chǎn)生一系列反應(yīng),有機(jī)物分子終究被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的凹凸與電子能量和有機(jī)物分子結(jié)合鍵能的***小有關(guān)。
 
  從除臭機(jī)理上剖析,***要產(chǎn)生以下反應(yīng):
  H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O
 
  NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O
 
  H2S去除率可達(dá)91.9%,NH3去除率可達(dá)93.4%,臭氣濃度去除率可達(dá)93.6%。
 
  從上述反應(yīng)來(lái)看,惡臭組分通過(guò)處理后,轉(zhuǎn)變?yōu)镹Ox、SO2、CO2、H2O等小分子,在必定的濃度下,各種反應(yīng)的轉(zhuǎn)化率均在95%以上,并且惡臭濃度較低,因而產(chǎn)品的濃度極低,均能被周邊的***氣所承受。